适用范围： 

•  化学气相沉积 (CVD)气体: 氨气、氨气、氧化亚氮、TEOS(正硅酸乙酯)、TEB(硼酸三乙酯)、TEPO(磷酸三乙酷)、磷化氢、三氟化氯、二氯硅烷、氟化氮、硅烷、六 氟化钨、六氟乙烷、四氯化钛、甲烷等

•  离子注入气体: 磷系、砷系、硼系气体为主:氟化砷、三氟化磷、磷化氢、三氟化硼、三氯化硼、四氟化硅、六氟化硫、氙气。.

•  光刻工艺气体：氟气、氮气、氟气、氖气等

•  扩散工艺气体：氩气、三氯氧磷等

•  刻蚀工艺气体：氟化物气体(卤化物类)为主:氨气、四氟化碳、八氟环丁烷、八氟环戊烯、三氛甲烷、二氟甲烷、氯气、溴化氢、三氯化硼、六氟化硫、一氧化碳等

•  掺杂工艺气体：含硼、磷、砷等三族及五族原子之气体，如三氯化硼乙硼烷、三氟化硼、磷化氢、砷化氢等

•  外延生长气体：二氯二氢硅、四氯化硅和硅烷等

检测项目：

•  气体纯度

•  杂质气体：N2、O2、CH4、CO、CO2、H2。

•  颗粒物

•  金属离子

•  杂质离子：F-、Br-、Cl-、NO2-、NO3-、SO42-、NH4+

•  水分

•  油分

•  氦检业务

•  未知气体分析

检测仪器：

•  气相色谱-质谱联用仪（GC-MS）

•  气象色谱仪GC

•  电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)

•  露点仪

•  离子色谱仪IC

•  傅里叶红外光谱仪FTIR